【摘 要】
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采用脉冲激光沉积（PLD）法在Si（111）衬底上制备稀土Eu^3＋ 掺杂的ZnO薄膜材料, 分别在纯氧和真空气氛中进行退火处理。 XRD图谱中仅观察到尖锐的ZnO（002）衍射峰,表明ZnO：Eu^3＋, Li ＋ 薄膜
【基金项目】
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国家自然科学基金项目（11104162,11104161）、山东优秀中青年科学家科研奖励基金项目（2011BSB01110）和山东省高校科技计划项目（J10LAl0）资助
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采用脉冲激光沉积（PLD）法在Si（111）衬底上制备稀土Eu^3＋ 掺杂的ZnO薄膜材料, 分别在纯氧和真空气氛中进行退火处理。 XRD图谱中仅观察到尖锐的ZnO（002）衍射峰,表明ZnO：Eu^3＋, Li ＋ 薄膜具有良好的c轴取向。薄膜的结构参数显 示：在纯氧气氛中退火的样品具有较大的晶粒尺寸且应力较小,表明在纯氧中退火的样品具有较好的结晶质量。 通过光致发光谱发现,在纯氧中退火的样品的IUV/IDL比值较大,说明在纯氧中退火的样品缺陷去除更充分, 结晶质量更好。当用395 nm光激发样品时,仅
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