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采用复合光敏剂并添加改性淀粉的方法，制备出降艉地期可控的光和生物双降解聚乙烯地膜。地膜的力学性能符合ＧＢ１３７３５－９２标准，在田间暴露４０天左右后出现崩裂，强度急剧下降且叶突变性，经四个后粘均分子量已了至５０００以下。真菌抗性试验表明此是的残膜易被土壤微生物侵蚀，采用红外光谱法对地膜降解过程中的化学结构变化进行了考察