【摘 要】
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介绍了利用电子束和 X射线束双曝光技术制作大高宽比高分辨率的 X射线聚焦或色散元件的新方法 (波长范围为 1～ 5 nm )。所制做的厚度为 10μm的 Au波带片具有 30个波带 ,最外
【机 构】
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中国科学技术大学天文与应用物理系!安徽合肥230026
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介绍了利用电子束和 X射线束双曝光技术制作大高宽比高分辨率的 X射线聚焦或色散元件的新方法 (波长范围为 1～ 5 nm )。所制做的厚度为 10μm的 Au波带片具有 30个波带 ,最外环的宽度为 0 .5μm。实验表明 :对 8ke V的X射线来说 ,波带片的衬度大于 10 ,分辨率为 0 .5 5μm,焦距为 2 1.3cm。
A new method of producing high aspect ratio high resolution X - ray focusing or dispersive elements (wavelength range 1 ~ 5 nm) using electron beam and X - ray double exposure technology is introduced. The prepared Au zone plate having a thickness of 10 μm had 30 wavebands and the width of the outermost ring was 0.5 μm. Experiments show that for 8 keV X-ray, the zone plate has a contrast of more than 10, a resolution of 0.55 μm and a focal length of 2.1 1.3 cm.
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