The Influence of Annealing Temperature on the Structure and Properties of TiO2 Films Prepared by Sp

• 作 者: LIU Baoshun ZHAO Xiujian ZHAO
• 机 构: KeyLaboratoryforSilicateMaterialScienceandEngineeringofMinistryofEducation
• 出 处: 武汉理工大学学报：材料科学英文版
• 发表日期: 2006年2期
• 关键词: 二氧化钛薄膜 磁控管溅射法 退火温度 光催化作用 热处理 magnetron spattering photocatalysis activity heat
• 基金项目: Funded by the National ＂863＂ Project Foundation （No. 2003LG0034）.

TiO_2 电影被 dc 在幻灯片上准备反应磁控管劈啪作响，然后，样品分别地在 300 deg 6 号元素碳的化学符号， 350 deg 6 号元素碳的化学符号， 400 deg 6 号元素碳的化学符号， 450 deg 6 号元素碳的化学符号， 500 deg 6 号元素碳的化学符号和 550 degC 被退火。X 射线衍射(XRD ) 被用来获得 TiO_2 电影晶体结构； X 射线光电子能谱法(XPS ) 被用来学习电影表面 stoichiometries；表面形态学被扫描电子显微检查法(SEM )