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本文介绍了用射频溅射技术制备ＩｎＳｂ薄膜的方法，探索了溅射电压，工作气压，衬底温度及其片电压等条件对膜的特性和结构的影响，着重讨论了溅射条件对膜方块电阻的影响，并初步得出其变化规律。
溅射条件对InSb薄膜方块电阻的影响
【摘 要】
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本文介绍了用射频溅射技术制备ＩｎＳｂ薄膜的方法，探索了溅射电压，工作气压，衬底温度及其片电压等条件对膜的特性和结构的影响，着重讨论了溅射条件对膜方块电阻的影响，并初步得出其变化规
【机 构】
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沈阳工业大学电子工程系,沈阳工业大学电子工程系110023,110023,110023
【出 处】
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传感器世界
【发表日期】
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1998年3期
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