脉冲激光沉积薄膜生长机制的计算机模拟研究

• 作 者: 岳岩 霍裕昆
• 机 构: 复旦大学现代物理研究所,200433,中国科学院上海冶金研究所离子束开放研究实验室,200050
• 出 处: 核技术
• 发表日期: 1998年6期
• 关键词: 分子动力学模拟 脉冲激光沉积 薄膜 生长机制 Molecular dynamics simulations Pulsed laser deposition
• 基金项目: 国家自然科学基金,,国家教委博士点基金,,大连理工大学三束材料改性实验室资助

建立了一个分子动力学模型以研究脉冲激光沉积金属薄膜的成膜过程，探讨激光沉积中极主的瞬时沉积率和载能粒子轰击对成模机制的影响，以能量为１０ｅＶ的Ｃｕ原子入射到Ｃｕ（１００）表面为例，进行了分子动力学模拟的计算，结果表明，激光成膜过程中载能粒子的瞬时高能量沉积极大地增加了外延表面的原子扩散活性，促使薄膜能在低温下以原子层尺度逐层生长。