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用X射线衍射和透射电镜表征了直流磁控溅射法制得的Ti-WO3薄膜的晶型、晶格常数、粒径等。研究了退火对Ti-WO3薄膜气敏性质和微结构的影响，找出了最佳退火温度和工作温度；并对机理进行了分析。结果表明：450℃退火的薄膜的气敏效应很好，最佳工作温度在150℃左右；
退火处理对Ti-WO3薄膜的结构和气敏特性的影响
【摘 要】
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用X射线衍射和透射电镜表征了直流磁控溅射法制得的Ti-WO3薄膜的晶型、晶格常数、粒径等。研究了退火对Ti-WO3薄膜气敏性质和微结构的影响，找出了最佳退火温度和工作温度；并对
【机 构】
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重庆师范大学物理与信息技术学院
【出 处】
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传感器与微系统
【发表日期】
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2008年8期
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