MICROBRIDGE TESTING OF YOUNG＇S MODULUS AND RESIDUAL STRESS OF NICKEL FILM ELECTROPLATED ON SILICON W

来源 :金属学报：英文版 | 被引量 : 0次 | 上传用户：yeximajor

【摘要】

：

Microbridge testing is used to measure the Young's modulus and residual stresses of metallic films. Nickel film microbridges with widths of several hundred

【作者】

：

Y.Zhou C.S.Yang J.A.Chen G.F.D

【机构】

：

KeyLaboratoryforThinFilmandMicrofabricationofMinistryofEducation,StateKeyLaboratoryofNonlinearMechan

【出处】

：

金属学报：英文版

【发表日期】

：

2004年3期

【关键词】

：

硅晶片 MEMS 镀镍微桥试验杨氏模量机械性能 nickel film microbridge MEMS mechanical property l

【基金项目】

：

国家重点基础研究发展计划(973计划)，the State Key Laboratory of Nonlinear Mechanics (LNM), Institute of Mechanics, Chinese Academy of Sciences

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Microbridge testing is used to measure the Young's modulus and residual stresses of metallic films. Nickel film microbridges with widths of several hundred microns are fabricated by Microelectromechanical Systems. In order to measure the mechanical pr

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