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详细叙述了用ＥＣＲ等离子体ＣＶＤ技术生长单晶和多晶不同组织结构的氮化铝薄膜的制法及其性能分析，并介绍了此类薄膜在ＧＨｚ频带声表面波器件中的应用。
氮化铝薄膜的制作及其应用
【摘 要】
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详细叙述了用ＥＣＲ等离子体ＣＶＤ技术生长单晶和多晶不同组织结构的氮化铝薄膜的制法及其性能分析，并介绍了此类薄膜在ＧＨｚ频带声表面波器件中的应用。
【出 处】
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电子材料（机电部）
【发表日期】
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1995年1期
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