液相氧化-低温煅烧脱除Silicalite-1膜模板剂及其性能研究

来源 :膜科学与技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:lhz19700717
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采用原位生长法在管状大孔α-Al2O3载体外表面上合成致密连续Silicalite-1沸石膜,利用双氧水和稀硝酸混合液液相氧化-低温煅烧方法脱除Silicalite—l沸石膜的模板剂,并用扫描电镜(SEM)、气体渗透测试,渗透蒸发(PV)等表征手段对沸石膜的性能进行评价.结果表明所制备的Silicalite-l膜表面晶粒交互生长,致密,连续,膜的厚度约为10μm.在293K,0.1MPa压差条件下,N2的渗透速率为8.16×10^-7mol/(m2·s·Pa),N2/i—C4
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