【摘 要】
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采用不同气氛等离子体处理ＰＴＦＥ／陶瓷复合介质材料，利用ＸＰＳ分析了处理样品表面成分的变化，发现等离子体处理导致表面Ｆ的含量降低和Ｏ的含量增加。高分子表面出现了不同成分的含氧基因，且随着
【机 构】
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采用不同气氛等离子体处理ＰＴＦＥ／陶瓷复合介质材料，利用ＸＰＳ分析了处理样品表面成分的变化，发现等离子体处理导致表面Ｆ的含量降低和Ｏ的含量增加。高分子表面出现了不同成分的含氧基因，且随着时间的增加，微波功率的增大，一ＣＦ２基团减少，含氧基团增加，这表明不同气氛等离子体与 ＰＴ－ＦＥＣ表面的作用是刻蚀、脱氟、交联和氧化同时并存，其中以氧等离子体刻蚀最为严重。
The plasma / plasma treatment of PTFE / ceramic composite media with different atmospheres was used to analyze the changes of the surface composition of samples treated by XPS. It was found that the plasma treatment resulted in the decrease of the surface F content and the increase of O content. With the increase of microwave power, the number of CF2 groups decreased and the number of oxygen-containing groups increased, which indicated that the interaction between plasma and PT-FEC surface was different Is etching, defluorination, crosslinking and oxidation co-exist at the same time, of which oxygen plasma etching is the most serious.
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