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介绍了半导体产业在制造极限的技术路线选择方面，下一代光刻技术一极紫外光刻设备面临的挑战及其开发和技术应用的进展现状，指出了在未来的22nm技术节点极紫外光刻进入量产的可能性。
EUV光刻技术的发展
【摘 要】
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介绍了半导体产业在制造极限的技术路线选择方面，下一代光刻技术一极紫外光刻设备面临的挑战及其开发和技术应用的进展现状，指出了在未来的22nm技术节点极紫外光刻进入量产的可
【机 构】
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《电子工业专用设备》编辑部
【出 处】
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电子工业专用设备
【发表日期】
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2008年10期
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