WO_x/TiO_2光催化剂的可见光催化活性机理探讨

• 作 者: 张琦 李新军 李芳柏 常杰
• 机 构: 中国科学院广州能源研究所,香港理工大学土木与结构工程系
• 出 处: 物理化学学报
• 发表日期: 2004年5期
• 关键词: 光催化剂 可见光 催化活性 费米能级 二氧化钛 XPS 磁控溅射技术 氧化钨 TiO2 Photocatalysis Activity under visib

采用磁控溅射技术在用浸渍提拉法制得的TiO2薄膜上，溅射氧化钨层，通过气相反应中光催化降解二甲苯的实验表明，WOχ／TiO2薄膜具有可见光活性，通过UV-Vis吸收光谱、X射线光电子能谱XPS)等方法对其可见光活性的机理进行探索，UV-Vis吸收光谱表明WOχ，TiO2对可见光响应的范围有一定的扩展，吸收强度增加，XPS表明WOχ／TiO2薄膜表面形成了明显的W杂质能级和Ti缺陷能级，这是WOχ／TiO2在可见光范围有一吸收的主要原因，也是光催化剂具有可见光活性的必要条件之一，同时杂质能级的存在使半导体费