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以多孔氧化铝为模板，采用交流电沉积的方法制备了钴纳米线阵列膜。采用扫描电子显微镜（SEM）对电沉积钴纳米线前后的多孔氧化铝模板的形貌进行表征，通过透射电子显微镜（TEM）观察钴纳米线的表面形貌。结果表明：金属钴沉积到多孔氧化铝模板的纳米孔中，钴纳米线的平均直径约为50nm，与氧化铝模板的孔径相一致。