ZnSe/SiO2薄膜光学常数的椭偏光谱测量

来源 :压电与声光 | 被引量 : 0次 | 上传用户:tanmite123
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采用溶胶-凝胶工艺与原位生长技术,制备了ZnSe/SiO2复合薄膜。X-射线衍射(XRD)分析表明,ZnSe/SiO2复合薄膜中ZnSe晶体为闪锌矿(立方ZnS)。利用椭偏光谱仪测量了不同ZnSe含量的ZnSe/SiO2复合薄膜的椭偏参数△与波长λ的色散关系,采用Maxwell-Garnett(MG)有效介质理论对薄膜的光学常数、厚度、气孔率、ZnSe的浓度进行了计算。结果表明,单层ZnSe/SiO2薄膜厚度在300nm以上时,随着溶胶体系Zn^2+、SeO4^2-浓度的增加而增大,气孔率在30%左右,Z
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