空心阴极离子镀（Ti，Zr）N膜层制备及应用研究

来源 :表面技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户：lixin062

【摘要】

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用空心阴极离子镀(HCD)技术制备了(Ti,Zr)N膜层,研究了氮分压对膜层硬度的影响.以结合强度为判据,采用基体温度、轰击气压、负偏压及中间层沉积时间作为试验的变化因素,用正

【作者】

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肖宏清刘谦

【机构】

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总装备部特种工程技术安装总队,装甲兵工程学院材料科学与工程系

【出处】

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表面技术

【发表日期】

：

2004年6期

【关键词】

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空心阴极离子镀(HCD) (Ti Zr)N 印制板 Hollow cathode deposition (Ti Zr)N Printed circuit b

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用空心阴极离子镀(HCD)技术制备了(Ti,Zr)N膜层,研究了氮分压对膜层硬度的影响.以结合强度为判据,采用基体温度、轰击气压、负偏压及中间层沉积时间作为试验的变化因素,用正交试验法优化了制备(Ti,Zr)N膜层的最佳工艺规范.应用优化的工艺参数对印制板(PCB)刀具进行了镀膜强化应用,结果表明,镀层性能良好,能够延长刀具的使用寿命.

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