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<正>该产品广泛应用于半导体领域,采用催化解吸、均蚀技术,易清洗,活性高,无味,可有效控制金属离子在硅表面的富集吸咐,钠离子含量比国外同类产品低一个数量级,存放时间长达72小时以上,且可集中清洗。对于硅单晶牌表面吸附颗粒,来用该产品可使被吸附物长
高纯多功能界面活性剂
【摘 要】
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<正>该产品广泛应用于半导体领域,采用催化解吸、均蚀技术,易清洗,活性高,无味,可有效控制金属离子在硅表面的富集吸咐,钠离子含量比国外同类产品低一个数量级,存放时间长达7
【出 处】
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技术与市场
【发表日期】
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2002年12期
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