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采用脉冲激光沉积工艺在不同条件下以Si（111）为衬底制备了ZnO薄膜。通过对不同氧压下（0～50Pa）沉积的样品的室温PL谱测试表明，氧气氛显著地提高了薄膜的发光质量，在50Pa氧气中沉积的ZnO薄膜具有最强的近带边UV发射。XRD测试说明在氧气氛中得到的薄膜结晶质量较差，没有单一的（002）取向。利用一低温（500℃）沉积的ZnO薄膜作缓冲层，得到了高质量的ZnO外延膜。与直接沉积的ZnO膜相比，生长在缓冲层上的ZnO膜展现出规则的斑点状衍射花样，而且拥有更强的UV发射和更窄的UV峰半高宽（98meV