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采用射频辉光放电等离子体壳层模型和蒙特卡罗法,模拟了射频磁控溅射镀膜中工作气体离子(Ar+)的输运过程,得到了离子到达靶面时的入射能量、角度和位置.模拟结果:对靶材溅射的离子主要来自于溅射坑上方的等离子体区域,初始离子的位置分布可通过靶材溅射坑的形貌拟合得到;离子的能量主要集中在壳层电压附近,离子大多数以垂直入射.模拟与实际相符,可用作进一步模拟离子对靶材溅射时的输入参数.