【摘 要】
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TiNi合金薄膜具有大的可变形量和强的形状记忆恢复力 ,是目前微型驱动器的候选材料。在TiNi合金溅射薄膜结晶化退火时 (高于 60 0℃ ) ,TiNi薄膜和Si载体的界面 ,将发生元素
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TiNi合金薄膜具有大的可变形量和强的形状记忆恢复力 ,是目前微型驱动器的候选材料。在TiNi合金溅射薄膜结晶化退火时 (高于 60 0℃ ) ,TiNi薄膜和Si载体的界面 ,将发生元素的互扩散 ,导致TiNi合金薄膜成分改变 ,并影响合金薄膜的强度及其形状记忆效应。为此 ,中国国立台湾材料
TiNi alloy film has a large deformability and strong shape memory resilience, is the current micro-drive candidate material. In the TiNi alloy sputtering film crystallization annealing (higher than 60 0 ℃), TiNi film and Si carrier interface, the elements will be interdiffusion, resulting in TiNi alloy film composition changes and affect the strength of the alloy film and its shape memory effect. To this end, China’s national Taiwan material
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