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【摘 要】
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本文总结了离子注入技术用于今后甚大规模集成电路(ULSI)时的部分研究结果,并讨论了在ULSI应用中离子注入技术可能遇到的实际问题及解决措施。就目前而言,已有的离子注入技术
【机 构】
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北京大学微电子学研究所,北京大学微电子学研究所北京100871,北京100871
【出 处】
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微细加工技术
【发表日期】
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1991年3期
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