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介结了射频溅射ＳｉＯ２的原理与工艺，对制造出的Ｓｉ／ＳｉＧｅＨＢＴ作了分析。
Intercept the principle and process of RF sputtering SiO2, made on the analysis of Si / SiGeHBT.
射频溅射SiO_2在制造Si/SiGeHBT中的应用
【摘 要】
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介结了射频溅射ＳｉＯ２的原理与工艺，对制造出的Ｓｉ／ＳｉＧｅＨＢＴ作了分析。
Intercept the principle and process of RF sputtering SiO2, made on the analysis of Si / SiGeHBT.
【机 构】
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北京工业大学电子工程系
【出 处】
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半导体技术
【发表日期】
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1999年04期
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