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半导体设备中常用静电吸盘的原理，通过在LABVIEW软件中仿真得出设备最佳运行状态下的相关参数。分析单极和双极静电吸盘的模型建立过程，研究Varian810离子注入机的六相静电吸盘的原理及其使用中夹持电压、冷却气体等对产品良率的影响，提出生产过程的监控参数。
静电吸盘吸附技术建模与仿真系统设计
【摘 要】
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半导体设备中常用静电吸盘的原理，通过在LABVIEW软件中仿真得出设备最佳运行状态下的相关参数。分析单极和双极静电吸盘的模型建立过程，研究Varian810离子注入机的六相静电吸盘
【机 构】
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新型功率半导体器件国家重点实验室
【出 处】
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设备管理与维修
【发表日期】
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2017年9期
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