酞菁铜旋涂薄膜的形貌与光谱学性质研究

• 作 者: 李强 霍丽华 高山 赵经贵
• 机 构: 黑龙江大学
• 出 处: 光散射学报
• 发表日期: 2003年3期
• 关键词: 酞菁铜旋涂薄膜 表面形貌 光谱学性质 有机半导体气敏材料 copper phthalocyanine derivative spin-coating film

采用旋涂法制备了2,9,16,23-四-异丙氧基酞菁铜(CuPc(OC3H7-i)4)薄膜,利用AFM、UV-Vis和FT-IR对薄膜的表面形貌和光谱学性质进行了表征.薄膜表面结构是由约为216nm×55nm×4nm的清晰纳米畴组成,旋涂膜中酞菁铜分子是处于一种无序的状态,其Soret带吸收与氯仿溶液相比位置不变,而Q带的聚集体和单体的吸收峰红移约20nm.