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脉冲辉光PECVD制备DLC薄膜的结构和性能研究
脉冲辉光PECVD制备DLC薄膜的结构和性能研究
来源 :真空科学与技术学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:wuyiguogdut
【摘 要】
:
类金刚石碳膜以其优异的性能,诸如高电阻率、高硬度、低摩擦系数、良好的光学特性等显示出良好的应用前景,越来越受到人们的关注。本文利用脉冲辉光PECVD在不同的脉冲电压下
【作 者】
:
苟伟
李剑锋
楚信谱
张礼平
李国卿
【机 构】
:
大连理工大学三束材料改性国家重点实验室大连交通大学大连理工大学三束材料改性国家重点实验室大连
【出 处】
:
真空科学与技术学报
【发表日期】
:
2008年S1期
【关键词】
:
脉冲放电
等离子体辅助化学气相沉积法
类金刚石碳膜
RAMAN光谱
表面形貌
Pulse discharge PECVD DLC Raman spectrosc
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类金刚石碳膜以其优异的性能,诸如高电阻率、高硬度、低摩擦系数、良好的光学特性等显示出良好的应用前景,越来越受到人们的关注。本文利用脉冲辉光PECVD在不同的脉冲电压下成功地制备了DLC薄膜。采用拉曼光谱仪、原子力显微镜、纳米压痕仪等设备对薄膜的相结构、表面形貌和力学性能进行了综合分析。
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