【摘 要】
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近年法国推出了一种电镀金新工艺,所用电解液含金4％±1％,铜10％～20％,氰化物10±2.5g/1,pH10.5,电流密度为～0.75A/~2dm,电解液温度~55C,所得镀层的含金录为75%(18K金)。为了提高镀金
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近年法国推出了一种电镀金新工艺,所用电解液含金4％±1％,铜10％～20％,氰化物10±2.5g/1,pH10.5,电流密度为～0.75A/~2dm,电解液温度~55C,所得镀层的含金录为75%(18K金)。为了提高镀金层的光亮程度和耐腐蚀性
In recent years, France introduced a gold electroplating process, the electrolyte containing gold 4% ± 1%, copper 10% to 20%, cyanide 10 ± 2.5g / 1, pH10.5, current density ~ 0.75A / 2dm, the electrolyte temperature ~ 55C, the resulting coating of gold recorded as 75% (18K gold). In order to improve the brightness of the gold-plated layer and corrosion resistance
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