【摘 要】
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45和32nm节点的可制造性需要新的策略。计算光刻提供了为设计流程定义解决方案的方法。随着晶体管数目的增加、芯片功能和性能的日益提高,集成电路的几何尺寸变得越来越小,这
【机 构】
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Mentor Graphics,Mentor Graphics,
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45和32nm节点的可制造性需要新的策略。计算光刻提供了为设计流程定义解决方案的方法。随着晶体管数目的增加、芯片功能和性能的日益提高,集成电路的几何尺寸变得越来越小,这需要以一种史无前例的方法来改造设计和制造流程。当关键技术、工具和接口开始出现并且展示它们的实际价值
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