溅射工艺参数对BaAl2S4薄膜沉积速率、化学组成及电致发光特性的影响

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BaAl2S4:Eu发光薄膜是最有希望实现彩色无机电致发光显示器的蓝色电致发光材料。用射频磁控溅射法制备了厚度在150~375nm之间的BaAl2S4:Eu薄膜,研究了溅射功率、Ar/H2S流量比和气压对其沉积速率和化学组成的影响,考察了不同退火条件下BaAl2S4:Eu薄膜的电致发光特性。并根据这些结果分析了较优的工艺条件。 The BaAl2S4: Eu luminescent film is the most promising blue electroluminescent material for color inorganic electroluminescent displays. The BaAl2S4: Eu thin films with thicknesses of 150 ~ 375nm were prepared by RF magnetron sputtering. The effects of sputtering power, Ar / H2S flow ratio and pressure on the deposition rate and chemical composition were investigated. The effects of annealing conditions Electroluminescent Properties of BaAl2S4: Eu Thin Films. Based on these results, the optimal process conditions were analyzed.
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