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提高腔靶激光能量注入率的新途径
提高腔靶激光能量注入率的新途径
来源 :强激光与粒子束 | 被引量 : 0次 | 上传用户:xuanchen21
【摘 要】
:
在“星光Ⅱ”上测量了入射孔边缘镀CH膜的孔靶激光能量注入率,给出了注入率 入射激光能量和波长变化的经验公式,同时对堵口现象物理机理进入一维数值模拟。实验结果表明:镀CH膜是增
【作 者】
:
陈家斌
郑志坚
【机 构】
:
中物院核物理与化学研究所高温高密度等离子体物理重点实验室
【出 处】
:
强激光与粒子束
【发表日期】
:
1998年2期
【关键词】
:
镀CH膜
激光能量注率
堵口机理
腔靶
CHplatingfoil
laserenergyinjectionefficiency
enclosuremechan
【基金项目】
:
中国工程物理研究院科学基金
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在“星光Ⅱ”上测量了入射孔边缘镀CH膜的孔靶激光能量注入率,给出了注入率 入射激光能量和波长变化的经验公式,同时对堵口现象物理机理进入一维数值模拟。实验结果表明:镀CH膜是增加激光能量注入率,提高腔靶辐射温度的有效方法。
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