0.8～1微米分步重复投影光刻机掩模库研制

• 作 者: 陈伟明 田桐 王继红
• 机 构: 中科院光电技术研究所!成都610209,中科院光电技术研究所!成都610209,中科院光电技术研究所!成都610209
• 出 处: 微细加工技术
• 发表日期: 1997年01期
• 关键词: 投影光刻机 掩模 8098单片机 自动控制系统 温度稳定性 机械构件 精对准 步进电机控制 机械部分 主计算机

掩模库系统可提高光刻机的稳定性和实用性，该系统包括精密的气动部分、机械构件和8098单片机为核心的电子／电气自动控制系统。

The mask library system enhances the stability and functionality of a lithography machine. The system includes a sophisticated pneumatic section, mechanical components, and an electronic / electrical automation system centered around the 8098 microcontroller.