溅射工艺参数对TiAlN薄膜力学性能及结构成分的影响

• 作 者: 陈蓓蓓 蔡珣 周滔
• 机 构: 上海交通大学材料科学与工程学院
• 出 处: 机械工程材料
• 发表日期: 2007年9期
• 关键词: TiAIN薄膜 磁控溅射 力学性能 工艺参数 TiAiN coating magnetron sputtering mechanical property

采用反应磁控溅射法和钛-铝镶嵌靶制备TiAIN薄膜；运用纳米压入硬度测试仪、划痕仪和能谱仪、X射线衍射仪等对薄膜进行表征；研究了制备工艺参数对薄膜力学性能、薄膜成分及组织结构的影响。结果表明：随着氮气分压增大，薄膜厚度降低，薄膜（111）取向减弱，（220）和（311）取向增强，薄膜中的氮原子含量逐渐增多，而钛、铝原子含量逐渐减少；随着基体偏压增大，薄膜纳米硬度和膜／基界面临界载荷均逐渐增大，纳米硬度最高可达48．73GPa，膜／基界面临界载荷最高可达40N。