【摘 要】
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用热灯丝铺助化学汽相沉积(HFACVD)法,以H_2十CH_4为原料在钼基板上沉积出了金刚石膜。用扫描电镜,X射线衍射,激光Raman光谱和光荧光谱对所得金刚石膜进行了分析。实验结果表
【机 构】
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北京矿冶研究总院材料研究室,北京矿冶研究总院材料研究室,北京矿冶研究总院材料研究室,北京矿冶研究总院材料研究室
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用热灯丝铺助化学汽相沉积(HFACVD)法,以H_2十CH_4为原料在钼基板上沉积出了金刚石膜。用扫描电镜,X射线衍射,激光Raman光谱和光荧光谱对所得金刚石膜进行了分析。实验结果表明,钼基板表面先生成了1层Mo_2C,然后,金刚石再在此Mo_2C上形核生长。所沉积的金刚石膜中仍含有一定的SP~2态碳和中性空缺等缺陷。
Using hot filament-assisted chemical vapor deposition (HFACVD) method, a film of diamond was deposited on a molybdenum substrate using H2-CH4 as a raw material. The obtained diamond films were characterized by scanning electron microscopy, X-ray diffraction, laser Raman spectroscopy and fluorescence spectroscopy. The experimental results show that the surface of molybdenum substrate surface layer into a layer of Mo_2C, and then diamond nucleation and growth in this Mo_2C. The deposited diamond film still contains certain SP ~ 2 state carbon and neutral vacancies and other defects.
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