论文部分内容阅读
目的:应用基于体素的脑形态测量学方法,比较缺陷型与非缺陷型精神分裂症患者大脑白质结构损害的差异.方法:采用GE 1.5T MRI成像系统,对缺陷型精神分裂症(n=10)、非缺陷型精神分裂症(n=11)及正常对照(n=15)进行全脑扫描,获取脑解剖结构MR T1图像.随后在SPM2平台上使用VBM工具箱逐例进行全自动数据分析,再进行成组t检验.结果:与正常对照相比,缺陷型患者的白质密度降低区域主要是左侧额叶回下,而非缺陷型患者为左侧额叶回下、右颞中回、右枕叶舌回以及胼胝体.两型患者的比较显示,缺陷型患者双侧额上回以及右侧顶叶的白质密度低于非缺陷型组,而左侧额内侧回的白质密度高于非缺陷型组.结论:这是第一项运用VBM法考察缺陷型与非缺陷型患者之间脑白质损害不同的形态学研究.研究结果为缺陷型患者额一顶环路受损的假说提供了新的证据.