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【摘 要】
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研究了多步晶片退火(MWA)工艺对垂直梯度凝固(VGF)方法生长的直径为100mm的掺Zn GaAs单晶的结构和光电性能的影响。采用Tencor6220表面缺陷分析仪和AccentRPM2000光致发光面
【机 构】
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北京通美晶体技术有限公司
【出 处】
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半导体技术
【发表日期】
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2008年S1期
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