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本文阐述了像管中场致发射产生的原因,机理及其为害性.它是造成像管暗电流的主要原因,增加了背景噪声.为获得一个低背景高性能的优质设计,对场致发射采取的消除和限制措施.
像管中的场致发射
【摘 要】
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本文阐述了像管中场致发射产生的原因,机理及其为害性.它是造成像管暗电流的主要原因,增加了背景噪声.为获得一个低背景高性能的优质设计,对场致发射采取的消除和限制措施.
【机 构】
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云南光学仪器厂
【出 处】
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云南大学学报(自然科学版)
【发表日期】
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1992年S1期
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