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本文主要介绍多晶硅薄膜的淀积方法。对热壁ＬＰＣＶＤ多晶硅薄膜的表面形貌以及掺磷后的薄膜电阻进行分析。其次简要叙述了多晶硅薄膜在硅ＣＣＤ多路传输器研制中的应用。
热壁LPCVD多晶硅薄膜在硅CCD多路传输器研制中的应用
【摘 要】
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本文主要介绍多晶硅薄膜的淀积方法。对热壁ＬＰＣＶＤ多晶硅薄膜的表面形貌以及掺磷后的薄膜电阻进行分析。其次简要叙述了多晶硅薄膜在硅ＣＣＤ多路传输器研制中的应用。
【机 构】
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电子部重庆光电技术研究所
【出 处】
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四川真空
【发表日期】
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1997年1期
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