主掩模制备用的自动曝光机

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日本国际电气公司研制成一台高精度自动曝光机供制备光掩模用。这台原图产生器制作的主掩模尺寸大小是器件尺寸的十倍。这台设备包括一个氙灯、一个变换宽度、长度和角度位置的缝隙,X、Y方向的精密工作台,系统控制采用日立公司10台小型计算 Japan's International Electric Company developed a high-precision automatic exposure machine for the preparation of photomask. The master mask produced by this master image generator is ten times the size of the device. The device includes a xenon lamp, a shift width, length and angular position of the gap, X, Y direction of precision workstations, the system control Hitachi 10 small calculation
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