【摘 要】
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采用热丝法，甲醇、丙酮及氢气等离子体在硅衬底上沉积出金刚石薄膜，用透射电镜（ＴＥＭ）及拉曼（Ｒａｍａｎ）谱分析膜中含有大小不等的金刚石颗粒，膜的厚度为５０一１００ｎｍ。Ｃ／Ｓｉ异质结Ｉ－Ｖ曲线具有二极管整流特性，可耐高压
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采用热丝法，甲醇、丙酮及氢气等离子体在硅衬底上沉积出金刚石薄膜，用透射电镜（ＴＥＭ）及拉曼（Ｒａｍａｎ）谱分析膜中含有大小不等的金刚石颗粒，膜的厚度为５０一１００ｎｍ。Ｃ／Ｓｉ异质结Ｉ－Ｖ曲线具有二极管整流特性，可耐高压，击穿场强达１０￣７Ｖ／ｃｍ。
Diamond films were deposited on silicon substrate by hot filament method, methanol, acetone and hydrogen plasma. The diamond films with different sizes were analyzed by transmission electron microscopy (TEM) and Raman spectroscopy. The film thickness was 50 a 100nm. C / Si heterojunction I-V curve with diode rectifier characteristics, high voltage resistance, breakdown field strength of 10 ~ 7V / cm.
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