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对多靶离子溅射制备的Ｎｂ／Ｓｉ周期多层膜的微结构进行了实验研究。利用Ｘ射线衍射和截面透射电子显微镜观测到室温和５６０℃沉积的Ｎｂ／Ｓｉ多层膜为非晶多层膜，但它们的微结构有很大的不同。采用沉积原子表面活动性和界面反应程度解释了所得到的结果。
沉积温度为室温和560℃的Nb／Si多层膜微结构研究
【摘 要】
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对多靶离子溅射制备的Ｎｂ／Ｓｉ周期多层膜的微结构进行了实验研究。利用Ｘ射线衍射和截面透射电子显微镜观测到室温和５６０℃沉积的Ｎｂ／Ｓｉ多层膜为非晶多层膜，但它们的微结构有很大的不同。采用沉积
【机 构】
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中国科学院物理研究所
【出 处】
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真空科学与技术
【发表日期】
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1999年2期
【基金项目】
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国家自然科学基金
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