超细Ar/O₂大气压等离子体射流选择性去除聚氯代对二甲苯薄膜（英文）

• 作 者: 郭红磊 刘景全 陈翔 杨斌 杨春生
• 机 构: 上海交通大学微/纳电子系,微米/纳米加工技术国家级重点实验室,薄膜与微细技术教育部重点实验室
• 出 处: 强激光与粒子束
• 发表日期: 2015年2期
• 关键词: 大气压等离子体射流 微针 聚合物薄膜 选择性去除 atmospheric pressure plasma jet microneedle polymer f
• 基金项目: supported by National Natural Science Foundation of China(5103500 5,61176104),Shanghai Municipal Science and Technology Commission(11JC1405700,13511500200)

介绍了一种在大气压环境下产生超细Ar/O2等离子体射流的装置。为了降低等离子体射流的尺寸,一种特制的玻璃微针被用于制作等离子体射流源。当施加在电极上的电压为4.0kV时,该装置能产生基本均匀和稳定等离子体射流,且等离子体射流的线宽仅有几μm。此外,探究了该超细等离子体射流选择性去除聚氯代对二甲苯薄膜的可能性。实验结果表明,该超细Ar/O2等离子体射流能有效地选择性去除聚氯代对二甲苯薄膜,去除速率可达2.4μm/min。因此,这种超细Ar/O2大气压等离子体射流有可能用于材料的超细加工。