Ni诱导SiGe薄膜晶化烧结制备与热电势氢传感器件

• 作 者: 全宇军 邱法斌 申宇爽 村山宣光
• 机 构: 吉林大学电子科学与工程学院,日本产业技术综合研究所
• 出 处: 仪表技术与传感器
• 发表日期: 2004年11期
• 关键词: 氢传感器 Ni诱导 Pt催化 热电效应 Hydrogen SensorNi-inducedPt-catalyzedThermoelectric Effect

在玻璃衬底上采用RF溅射法制备非晶SiGe薄膜的基础上,采用金属Ni诱导法对所制备的薄膜进行晶化烧结,并以Pt催化氢氧化放热反应和SiGe薄膜的热电势效应为原理制备出了小型热电势氢传感器.测试表明:以500℃烧结所得SiGe薄膜材料为敏感基体,在100℃工作温度下所制备的传感器对3%H2灵敏度为0.7 mV,检测的浓度范围大约为0.02%～5%,且输出电压随着烧结温度的升高而升高.