【摘 要】
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CF显影液目前一般都采用KOH,显影机台水洗单元清洗液使用循环水,重复利用,减少消耗.但是重复使用同时也容易导致钾离子去除不完全,残留的钾离子会在滴液晶后聚集在液晶Patter
【机 构】
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南京中电熊猫液晶显示科技有限公司制程技术部 江苏 南京 210033
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CF显影液目前一般都采用KOH,显影机台水洗单元清洗液使用循环水,重复利用,减少消耗.但是重复使用同时也容易导致钾离子去除不完全,残留的钾离子会在滴液晶后聚集在液晶Pattern边缘,然后在点灯时形成明显规律的LC滴落Pattern形状的Mura,称棋盘格Mura,也叫Drop Mura.棋盘格Mura确认为液晶污染,针对棋盘格Mura异常样品进行TOF-SIMS离子分析,确认污染源为钾离子,可以判定不良原因为液晶污染.为加强残留钾离子的去除,通过显影机台显影时间减少,清洗段清洗液流量加大,加强清洁能力,同时显影后Oven烘烤温度提升,从而减少钾离子残留污染液晶,最终改善棋盘格Mura.
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