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LSI/VLSI中缺陷,杂质与器件性能的关系
LSI/VLSI中缺陷,杂质与器件性能的关系
来源 :上海金属.有色分册 | 被引量 : 0次 | 上传用户:czwhczwh75
【摘 要】
:
结合器件工艺的失效分析,评述了硅中缺陷和氧、碳、金属杂质与器件性能、器件工艺之间的相互关系。指出:杂质和缺陷对器件的性能、成品率和可靠性有严重的影响,尤其经金属杂
【作 者】
:
胡才雄
【机 构】
:
上海有色金属研究所上海201600
【出 处】
:
上海金属.有色分册
【发表日期】
:
1992年1期
【关键词】
:
硅
吸除
器件性能
缺陷
杂质
SiliconGetteringDevice performanceDefectImpurity
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结合器件工艺的失效分析,评述了硅中缺陷和氧、碳、金属杂质与器件性能、器件工艺之间的相互关系。指出:杂质和缺陷对器件的性能、成品率和可靠性有严重的影响,尤其经金属杂质缀饰的缺陷对器件的危害更大。对硅中某些杂质和缺陷的最新研究进展作了介绍。
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