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测试了高纯电子铝箔(以下简称铝箔)在2mo1／L HCl和2mo1/L HCl+0．5mol/L H2SO4溶液中三角波动电位激励时的电流响应曲线，用Daubechies2小波对所测得的电流响应曲线进行了时频分解，研究了SO4^2—在铝箔交流扩面电蚀工程中的缓蚀机理．提出了铝箔在含Cl^—溶液中点蚀时的氧空位侵蚀机理模型，该模型指出在一定的酸度条件下，在侵蚀膜表面形成的正电荷集中点是C1^—与SO4^2—发生特性吸附的原因；C1^—在侵蚀膜内的主要传输途径是存在于侵蚀膜内微晶晶界上的氧空位链；进入侵蚀膜内