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以CH4和N2为反应气体，采用空心阴极放电激发的等离子体增强化学气相沉积法在Si片上制备出了氢化非晶碳氮（α—CNx：H）薄膜。利用原子力显微镜（AFM）对薄膜的表面光洁度及表面形貌进行了测量和表征。利用X射线光电子能谱（XPS）、傅立叶红外吸收谱（FTIR）和纳米压入（nano—indentation）等测试手段分析了薄膜的成分、结构及力学性能。结果表明：薄膜的表面光滑、致密，表面光洁度〈1nm。薄膜的最大N含量达到了26．39％（原子分数），对应的N／C为0．41。XPS和FTIR分析表明：薄膜中的C