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光刻技术是推动集成电路制造业不断向前发展的关键技术。X射线光刻技术是下一代光刻技术的一种，具有产业化的应用前景。掩模技术是X射线光刻技术的难点，本文报告了国内利用同步辐射源的X射线掩模和光刻技术研究的最新进展。
同步辐射光刻技术进展
【摘 要】
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光刻技术是推动集成电路制造业不断向前发展的关键技术。X射线光刻技术是下一代光刻技术的一种，具有产业化的应用前景。掩模技术是X射线光刻技术的难点，本文报告了国内利用同步
【机 构】
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中国科学院微电子中心,中国科学院高能物理研究所
【出 处】
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核技术
【发表日期】
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2002年10期
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