A Novel Duplex Low-temperature Chromizing Process at 500℃

• 作 者: Huiliang CAO Cuilan WU Jiangwe
• 机 构: SchoolofMechanicalEngineering,CollegeofMaterialsScienceandEngineering
• 出 处: 材料科学技术学报：英文版
• 发表日期: 2007年6期
• 关键词: 铬化作用 等离子体 对热反应 金属材料 Chromizing Plasma nitriding Thermoreactive deposition and di
• 基金项目: This work was financially supported by the National Natural Science Foundation of China （Granted No. 50671038）.

在 500 °C 的一个优化低温度的渗铬过程经由由先锋血浆 nitriding 组成的一个双渗铬过程与 0.45 wt %碳在平凡的中等碳的钢上被认识到，并且跟随的盐洗澡 thermoreactive 免职和散开( TRD )有薄散开层的渗铬 process.CrN 层在下面被形成。双渗铬过程被光显微镜学(OM ) 学习，扫描电子显微镜学(SEM ) ，精力散 X 光检查光谱学(版本) ， X 光检查衍射(XRD ) ，和传播电子显微镜学(TEM ) 。在 500 °C 的渗铬速