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研究了磁控溅射镀陶瓷薄膜（SiOx）使PET基体阻隔性提高的机理，并对SiOx层的堆积结构做了假设及理论分析，结合SEM形貌表明：磁控溅射SiOx层存在层状结构及针孔随机分布，阻隔性的提高可由努森扩散和层流两种机理加以解释，即在一定的压力差下，阻隔性提高决定于针孔的分布、陶瓷层厚度以及SiOx层数。