【摘 要】
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０．８～１微米分步重复投影光刻机中国科学院光电技术研究所承担的国家“八·五”科技攻关项目“０．８～１微米分步重复投影光刻机”，于１９９６年１月通过了国家验收，１９９６年１１月至１９９７年４月在北京微电子中心按“０．８微米ＣＭＯＳ全
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０．８～１微米分步重复投影光刻机中国科学院光电技术研究所承担的国家“八·五”科技攻关项目“０．８～１微米分步重复投影光刻机”，于１９９６年１月通过了国家验收，１９９６年１１月至１９９７年４月在北京微电子中心按“０．８微米ＣＭＯＳ全套工艺”进行工艺考核...
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