【摘 要】
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采用连续式磁控溅射技术在硼硅玻璃表面沉积了TiAlN/SiN复合薄膜.制备的复合薄膜表面光滑致密,内层TiAlN薄膜为柱状晶结构,厚度约为109 nm,外层SiN薄膜为非晶结构,厚度约为67
【机 构】
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中国科学院海洋新材料与应用技术重点实验室浙江省海洋材料与防护技术重点实验室中国科学院宁波材料技术与工程研究所 宁波 315201哈尔滨师范大学物理与电子工程学院 哈尔滨 150025;中国科学院海洋新
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采用连续式磁控溅射技术在硼硅玻璃表面沉积了TiAlN/SiN复合薄膜.制备的复合薄膜表面光滑致密,内层TiAlN薄膜为柱状晶结构,厚度约为109 nm,外层SiN薄膜为非晶结构,厚度约为67nm.纳米压入测试复合薄膜的硬度可达15GPa,随着氧化温度的增加,近表面区域的硬度显著增加.与TiAlN薄膜相比,TiAlN/SiN复合薄膜具有高的韧性和耐划擦性能.硼硅玻璃表面沉积的TiAlN/SiN复合薄膜可耐700C高温氧化而薄膜颜色不发生变化.
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